Налични целеви нива на чистота на ниобий MH

99,95% (4N) ниобий цел

● Свръх{0}}висока чистота с изключително ниско съдържание на метални и газообразни примеси

● Стабилна плазма, ниско генериране на частици

● Подходящо за полупроводникови, свръхпроводящи и-електронни филми от висок клас

99,9% (3N) ниобий цел

● Висока чистота с отлично съотношение-цена и производителност

● Надеждна стабилност на разпръскване за промишлени приложения с покритие

● Подходящ за общи електронни, оптични и функционални покрития

MH ниобиеви целеви форми

Ние доставяме ниобиеви мишени в различни геометрии, за да съответстват на различни системи за разпръскване:

Правоъгълна / квадратна цел

● Планарни системи за разпръскване

● Катоди за магнетронно разпрашване

● Равномерно отлагане на филм с-голяма площ

Тръбна цел

● Ротационни разпрашващи системи

● По-висок целеви процент на използване

● Подобрена равномерност на покритието и производствена ефективност

(Индивидуални размери и опции за залепване, налични при поискване.)

MH Niobium Target Specification Range

Чистота	99.9%, 99.95%
Плътност	По-голяма или равна на 99,9% от теоретичната плътност
Зърнеста структура	Фино и еднообразно
Повърхностно покритие	Ra0.4
Правоъгълна / квадратна цел	Дължина по-малка или равна на 3000 mm, ширина по-малка или равна на 800 mm, дебелина (mm) 1~20 mm
Тръбна цел	Външен диаметър 10-400 мм, стена 2-28 мм

99,95% срещу 99,9% – Ръководство за избор

Елемент	99,95% Nb Цел	99,9% Nb Цел
Ниво на чистота	Ултра{0}}висока чистота (4N)	Висока чистота (3N)
Съдържание на примеси	Изключително ниско	ниско
Качество на филма	Най-висока равномерност и стабилност	Стабилен, промишлен{0}}клас
Генериране на частици	Минимална	ниско
Типични приложения	Полупроводници, свръхпроводящи филми, R&D	Оптични покрития, функционални филми, масово производство
Ниво на разходите	По-високо	По-икономичен

Правоъгълна срещу тръбна цел – Ръководство за избор

Сравнение	Правоъгълна / квадратна цел	Тръбна цел
Съвместимост на процеса	Планарно разпрашване, магнетронно разпрашване	Цилиндрично разпрашване
Използване на материала	20%~30%	70%~85%
Разходи за доставка	Умерен	Много по-високи от плочите
Производствена ефективност	Малки партиди, много-разнообразни покрития	Големи партиди и непрекъснати покрития
Повърхностна обработка	Фино шлайфане и полиране	Фино смилане, по-трудно
Предложени материали	Чист ниобий (99,95%), Nb-1Zr	Чист ниобий (99,95%), Nb-1Zr (специално предназначение при висока температура)

MH Ниобиева мишена Типични приложения

Полупроводникови тънки слоеве

Свръхпроводящи ниобиеви покрития

Оптични и декоративни покрития

Дисплеи и електронни устройства

Изследователски и усъвършенствани функционални филми

Защо да изберете MH ниобиеви цели

● Висока чистота и стабилно разпръскване

● Еднаква микроструктура и висока плътност

● Налични множество геометрии: правоъгълни и тръбни

● Персонализирани размери и решения за свързване

● Доказана употреба при усъвършенствани приложения за покритие

Нашите ниобиеви мишени за разпръскване осигуряват надеждна чистота, постоянно поведение при разпръскване и високо-качество на филма за взискателни приложения с тънък слой.